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硅芯片無氧真空烤箱

更新時間:2024-01-15

訪問量:1124

廠商性質:生產廠家

生產地址:

簡要描述:
硅芯片無氧真空烤箱,廣泛應用于生物化學,化工制藥、醫(yī)療衛(wèi)生、農業(yè)科研、環(huán)境保護等研究應用領域,作粉末干燥、烘培以及各類玻璃容器的消毒和滅菌用。
品牌豪恩分類其他
產地國產

一、硅芯片無氧真空烤箱箱體規(guī)格

規(guī)格型號

內箱尺寸(W*H*Dmm)

外箱尺寸(W*H*Dmm)

真空泵

電源

HE-WD-300

300*300*300

1000*1580*920

4升

AC 220V 50Hz 3.5KW

HE-WD-400

400*400*400

1000*1580*920

4升

AC 220V 50Hz 4.5KW

HE-WD-500

500*500*500

1000*1580*920

4升

AC 220V 50Hz 5.5KW

HE-WD-600

600*600*600

1000*1580*920

4升

AC 380V 50Hz 9KW

HE-WD-700

700*700*700

1000*1580*920

8升

AC 380V 50Hz 12KW

HE-WD-800

800*800*800

1100*1680*1050

8升

AC 380V 50Hz 15KW

HE-WD-1000

1000*1000*1000

1350*1620*1300

8升

AC 380V 50Hz 20KW

箱體結構:連體式,真空泵置于機臺下部;

隔層:內分二層,配網(wǎng)板二塊,可活動抽出;

面板安裝:控制面板安裝于機臺下方(如設備外觀圖);

開門方式:單由右至左開啟;

可視窗:門上帶可視窗,規(guī)格W250×H300mm;

內箱材料為:304#不銹鋼工業(yè)板;內箱加強處理,抽真空不變形;

外箱材料為:冷軋鋼板,厚1.2mm,表面烤漆處理;

保溫材質為:耐高溫巖棉,保溫層厚100mm,保溫效果好;

安裝帶剎車活動腳輪,可任意推動;

二、硅芯片無氧真空烤箱控溫系統(tǒng)

溫度范圍:常溫+30℃~200℃

控制精度:±0.5℃

顯示精度:0.1℃        

箱內溫度均勻度:±5℃%(無真空時,空箱測試)

升溫速率:RT→100℃(約30分鐘),200℃(約45分鐘)

三、真空系統(tǒng)

真空度:0~-101KPa(≤133pa)

真空保壓泄漏率:約0.8KPa每小時

采用高密封性的硅膠密封條保障整機的密封性;

采用數(shù)顯示式真空表直接顯示內箱真空度,讓你即時了解箱體內的真空狀態(tài),真空度達到0--0.1Mpa (即:100pa真空度)

四、充氮氣裝置

1、調壓閥:控制氮氣壓力,正常使用下氮氣壓力調為2.5公斤左右;

2、面板流量計:控制氮氣進入箱內的大小,量程為10L/min-60Lmin;

3、氮氣管道進入到箱內正后面,調壓閥處預留8mm快插氣管接口;

4、注:氮氣由用戶自備。

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